Fujifilm XF 33 mm f/1,4 R LM WR

Fujifilm XF 33 mm f/1,4 R LM WR - pevný objektiv s ohniskovou vzdáleností 33 mm (50 mm po přepočtu na kinofilm) a vysokou světelností f/1,4. Optická konstrukce je tvořená 15 členy v 10 skupinách, obsahuje dva asférické prvky, které pomáhají snižovat zkreslení a chromatickou aberaci, byly použity také tři prvky ED, které zajišťují špičkový obraz s vysokým kontrastem a ostrostí. Kromě toho objektiv disponuje zaoblenou devítilamelovou clonu, ​​která se stará o přirozený a hladký bokeh. Konstrukce je odolná proti prachu, mrazu i povětrnostním vlivům.

Výjimečná ostrost obrazu

Optická konstrukce objektivu sestává z 15 členů v 10 skupinách, včetně dvou asférických a tří ED členů. Ty účinně minimalizují chromatickou a sférickou aberaci a zajišťují ostrost až do krajů i i při plně otevřené cloně objektivu. Objektiv se může pochlubit vynikající světelností f/1,4, čímž fotogafovi umožňuje pořizovat vysoce kvalitní snímky i za zhoršených světelných podmínek. Použitím devíti lamel clony objektivu byl zajištěn bokeh téměř kulatého tvaru, který působí velice jemně a přirozeně.

Spolehlivé ostření

Systém automatického zaostřování objektivu XF 33mm f/1,4 je díky lehké konstrukci poháněn lineárním motorem. Zmenšením zaostřovacích prvků byla redukována váha a výsledkem je tiché, rychlé a vysoce přesné automatické zaostřování. Objektiv je schopen zaostřit již za 0,04s což zajišťuje, že uživatelé nepropásnou žádný fotografický moment.

Odolná konstrukce

Konstrukce objektivu je odolná proti prachu, vlhkosti a mrazu (WR). Bezproblémově může pracovat při teplotách až -10 ℃ a je dostatečně odolný pro všestranné použití i za nepříznivých podmínek.